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产品用途本机主要用于8英寸以下硅片、光学玻璃、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的双面研磨,也可用于其它硬脆材料的双面高精度研磨加工。设备基本参数主要特点2.1变频器配合异步电机拖动,实现了软启动,软停止,调速稳定,冲击小。2.2采用三电机同步拖动,变速范围更广,能适应不同研磨材料及研磨工艺的要求;可… 25.5 万
本装置是为减反射光学薄膜的大批量生产而设计制作的光学镀膜机。采用了磁流体密封技术的中心旋转式基板架,保证了薄膜产品的重复性与均匀性优化的排气特性和升温能力使镀膜时间缩短可以加装用于对应高精度AR镀膜的多层膜用可靠的光控仪 (optional)规格真空室 SUS304,Ф1800mm×2000mm(H… 12.5 万